“如这张简要设计图所示，我们在这套系统中，创造出了波长为零点五纳米的超紫外混合激光，其精度，是目前全球最先进，asl集团euv机台的整整二十七倍！”

“而为了获得比极紫外更强的光源，星辰光学团队研发了cst全反射变焦镜头组件，变焦十六倍，数值孔径零点零三三，最大曝光范围七十六乘以九十三毫米！”

“这套透镜，是德国卡尔蔡司透镜性能的，整整三十倍！”

第378章 企业界在行动 国家队也有大动作

总的来说，第四代光刻机技术指标，是第三代euv的二十倍左右。

这就好比马车和火车的迭代，差距是全方位的，更短的波长只是一种表象，最惊人的创举在于，星辰科技突破了曝光功率的物理限制。

普通百姓们或许并不清楚，从第一代到第三代光刻机，其实都是大力出奇迹的结果。

就拿第三代euv来说，极紫外光是超大功率的电老虎，250w的机台每工作一天，就要耗费高达三万度的电力，而且还需要一套体积惊人的散热系统辅助。

技术不够，功率来凑，一直是光刻机发展的逻辑，在星辰科技之前，没有任何企业真正解决过这个问题，工程师们的思路通常简单粗暴，他们想要更精确地曝光效果，就不断的提高功率，制造更大的光源发生器，打磨更精良的透镜。

星辰科技之所以能够彻底解决问题，是因为他们没有延续大功率光源过爆的传统，而是直接采用了激光。

从本质上来来说，星辰科技的第四代光刻系统，就是一套激光散射平台，这玩意儿不仅能刻蚀硅晶圆，工艺改良之后，甚至还能发展出激光武器。

当然，从激光刻蚀平台到激光武器之间，还有很长的科技树要攀爬，并不能够一蹴而就。

“是激光散射！华夏人用了激光技术！”

“零点五纳米的激光刻蚀？那岂不是意味着，星辰科技有能力把芯片的指标，推进到零点一纳米，甚至更低？”

“完全无法想象，设计端跟上的话，需要多少核心，他们就能制造多少个核心，将128核心处理器塞进手机，也不再是痴人说梦了。”

“这太牛了吧？”