第四百一十五章 找人

“看看?你这个老好人我还不了解?闷头闷脑,但是花花肠子不少,你让我过去是要帮忙吧?”

“我闷头闷脑,你可就是聪明绝顶了,有很多事情我办不了,所以就找你过来看一看!”

周明对这个谢喜德非常客气。

“我可没时间,我手里还有一堆活呢!不去不去!”

对方回答。

“别的呀!老谢,我们这里可是有那一台岛国人制造的晶圆生产线,你不来就要错过了!”

周明不急不慢地说道。

“我呸!你还好意思说这套生产线的事?当年国家从岛国买来这套设备,我们厂可是最先提出来的,结果硬是被那什么………江南无线电厂给抢去了,他们有什么?要人没有人,结果怎么样?这么多年也没搞出什么东西来,白白浪费了国家的资金,你现在还拿这件事给我说……不去,说什么也不去!”

对方当时就急了。

刘琅在一旁听着好笑,这件事周明跟他说起过,五年前引进这套设备的时候曾经有好几家企业想要,首都第三晶体管厂做为国内最大的一家半导体企业,当然希望引进这台具有世界先进水平的生产线,可是这套设备太贵了,价值数千万美元,虽然国家会给予一定的补贴,但是企业自己也要花费超过亿元的资金,这笔钱太多了,光靠企业还是无法完成了,只能通过当地政府帮忙。

首都没有出这笔钱,反倒是苏省拿出这笔钱把这套生产线买了过来,不过江南无线电厂虽然得到了这套设备可也没有人能够真正操作,只是生产了一年之后就因为市场不好而停工,一放就放了好几年,要不是有王海军等几个人月月维护,这套设备恐怕也就报废了。

从这件事就可以看出来国家产业的布局没有一个统一的规划,一套设备能不能用都还没弄明白就先买过来,买回来后也不知道谁来使用,要不然刘琅也不会提出产业园区的概念。

这件事让谢喜德一直耿耿于怀,所以一听到这件就急了起来。

“老谢,你真的不来?”

周明问道。

“不去,不去,我说不去就不去!”

对方生气地说道。

“现代的光刻技术分成几个步骤,首先是气相成底膜,就是硅片在清洗、烘培后首先通过浸泡、喷雾或化学气相沉积等工艺。

然后是旋转涂胶,是形成底膜后,要在硅片表面均匀覆盖光刻胶,此时硅片被放置在真空吸盘上,吸盘底部与转动电机相连,当硅片静止或旋转的非常缓慢时,光刻胶被分滴在硅片上,随后加速硅片旋转到一定的转速,光刻胶借助离心作用伸展到整个硅片表面,并持续旋转甩去多余的光刻胶,在硅片上得到均匀的光刻胶胶膜覆盖层,旋转一直到溶剂挥发,光刻胶膜几乎干燥后停止。

然后是软烘,是涂完光刻胶后,需对硅片进行软烘,除去光刻胶中残余的溶剂,提高光刻胶的粘附性和均匀性。未经软烘的光刻胶易发粘并受颗粒污染,粘附力会不足,还会因溶剂含量过高导致显影时存在溶解差异,难以区分曝光和未曝光的光刻胶。

还有曝光,这个过程是在硅片表面和石英掩模对准并聚焦后,使用紫外光照射,未受掩模遮挡部分的光刻胶发生曝光反应,实现电路图从掩模到硅片上的转移。

显影,是使用化学显影液溶解由曝光造成的光刻胶可溶解区域,使可见图形出现在硅片上,并区分需要刻蚀的区域和受光刻胶保护的区域。显影完成后通过旋转甩掉多余显影液,并用高纯水清洗后甩干。

坚膜,显影后的热烘叫做坚膜烘培,温度比软烘更高,目的是蒸发掉剩余的溶剂使光刻胶变硬,提高光刻胶对硅片表面的粘附性,这一步对光刻胶的稳固,对后续的刻蚀等过程非常关键。

坚模之后就是刻蚀了,这项工艺非常重要,是通过化学或物理的方法有选择地从硅片表面除去不需要材料的过程,通过刻蚀能在硅片上构建预想的电子器件。

最后就是去胶,是刻蚀完成后,通过特定溶剂,洗去硅片表面残余的光刻胶,此时一个小小的芯片基本就完成了!”

呈贤把这台光刻机的工作原理讲的非常清楚,让周明都有耳目一新的感觉。

“果然厉害,我们的刻纹机就没有这么多的结构,怪不得人家那么强大,在这些小小的细节方面我们就没法比呀!”

作为科学家,周明教授只认真理,人家美国强就是强,你不承认就是自欺欺人,不像有的人,人家比你强还不承认,这样的态度永远不会进步。

“海军小同志,你接触这套生产线时间最长,那你有如何改进的方法吗?”

周明看着王海军问道。

王海军一听脑袋晃得跟拨浪鼓一样。

“我有方法?我要有方法那就是神仙了!”

“周教授,我没有任何方法,甚至我连光刻机里的构成都不知道呀!”

王海军实话实说道。

“嗯,我也没有方法,这种设备不是几个人就能弄明白的,看来只能找人了,或许那帮家伙能帮上忙!”

周明说道。