这一次，他无论如何，都不可能再输了。

第115章 光刻大战

井熙正在烦恼着, 自己究竟要不要认认真真的，把极紫外光刻机给做出来。

最开始她下注极紫外光的时候，是真没想到能这么快就出成果, 而纯粹是出于一个研究者的本能——反正项目开都开了, 多试试也没坏处。

芯片领域有一个很著名的定律叫做摩尔定律, 大概意思是每隔两年, 芯片的性能将增加一倍，单位面积内可以容纳的元器件数量也将翻一倍。

这也就意味着, 八十年代的芯片，和若干年以后的比……根本就毫无比较的价值。

虽然若干年后，光刻是芯片行业绝对的皇冠，甚至大国博弈间的重要砝码, 但是在这个连蚀刻尺寸都还以微米计算的时代，挑战纳米级别的技术，感觉跟神经病也差不太多。

这个年代的光刻机技术, 因为过于粗犷的蚀刻尺寸, 其实难度并不高，甚至还有人在自家的地下室里就手工做出一台光刻机的。

光刻说穿了也不难, 就是利用掩膜和曝光技术以及物理蚀刻, 将电路图形传递到单晶表面或介质层上，从而生产出芯片的技术。

20世纪60年代，因为国防和航天业的飞速发展，米国对集成电路的要求越来越高, 大量资金和机会汇集过来，由此出现了第一批专业的芯片设备制造商。

与此同时，欧洲也不甘落后，在荷兰埃因霍温的飞利浦实验室里, 年轻的实验员克洛斯特曼开发出了第一台6镜头重复曝光光刻机。

时间进入七十年代，相位光栅和镜后侧光结合进行投影和对准，高自动化水平的气动控制等技术的应用，让飞利浦实验室的技术继续在全球保持领先，掩膜图案缩小到两英寸，圆晶直径三到四英寸，最细的线条只有两微米宽，误差在十分之一微米以内。

而这个时候，在芯片技术上国内其实并没有被甩得太远。

1972年，四川永州半导体成立，第二年就引进了当时最先进的3英寸圆晶生产线，领先台湾两年，韩国四年。而三星半导体78年才出现，至于台积电，更是直到87年才正式登上历史舞台。

到了八十年代初期，因为米国芯片产业升级，再加上两国间短暂的蜜月期，国内开始用很便宜的价格大量引进二手生产线，设备是便宜，竞争力也几近于无，至此以后，国内芯片产业就开始了长时间的落后，直到三十年后才在一部分大尺寸领域艰难赶上，但是更精密的10纳米级别以内，依然被牢牢的卡着脖子。

现在，或许真是进入光刻领域的好时候——井熙想。